반도체공정개론
로즈
2023-11-24 05:31
320
0
본문
반도체공정개론

도서명 : 반도체공정개론
저자/출판사 : Richard,C,Jaeger,저자,글,이상렬,윤일구, 한티에듀
쪽수 : 352쪽
출판일 : 2023-02-28
ISBN : 9789813350632
정가 : 23000
제1장 미소전자 제조 공정
제2장 리소그래피
제3장 실리콘 산화막
제4장 확산
제5장 이온 주입법
제6장 박막 증착
제7장 상호접속과 접촉
제8장 패키징 및 수율
제9장 MOS 공정 집적화
제10장 양극 공정 집적화
제11장 MEMS 공정

도서명 : 반도체공정개론
저자/출판사 : Richard,C,Jaeger,저자,글,이상렬,윤일구, 한티에듀
쪽수 : 352쪽
출판일 : 2023-02-28
ISBN : 9789813350632
정가 : 23000
제1장 미소전자 제조 공정
제2장 리소그래피
제3장 실리콘 산화막
제4장 확산
제5장 이온 주입법
제6장 박막 증착
제7장 상호접속과 접촉
제8장 패키징 및 수율
제9장 MOS 공정 집적화
제10장 양극 공정 집적화
제11장 MEMS 공정
댓글목록0